چکیده

نمک‌های دیازونیوم به علت سهولت در فراوری، احیای سریع، پیوند قوی کوالانسی بین سطح و گروهآریلی، پایداری بالا در محدوده گسترده‌ای از پتانسیل و دوام کافی در محیط‌هایشیمیایی در سال‌های اخیر به عنوان نسل جدیدی از اصلاح‌سازهایسطحی مورد توجه محققان قرار گرفته‌اند. این مواد به علت برخورداری از محدوده وسیعگروه‌های عاملی، در محدوده گسترده‌ای از کاربردها نظیر ایجاد سطوح فوق آب‌گریز،پوشش‌های مقاوم به خوردگی، سنتز محدوده وسیعی از مواد آلی و ایجاد لایه میانی برایاتصال نانوذرات به یکدیگر و به سطح کاربرد دارند. در این پژوهش از نمک پارابنزنبیس دیازونیوم(p-PBDS) به منظور اتصال اکسید گرافن به سطح و از نمکدیازونیوم 4-دوسیل بنزن به منظورایجاد خاصیت آب‌گریزی بر سطح مس استفاده شد. ازاین رو، در ابتدا با هدف ایجاد یک پوشش اکسید گرافن آب‌گریز(بدون لایه میانی)، از دو حمام بدون بافر و حمام بافر فسفاتی به منظور پوشش‌دهیالکتروفورتیک اکسید گرافن بر سطح مس استفاده شد. به منظور مشخصه‌یابی سطح پوشش‌ها، از میکروسکوپ الکترونیروبشی، اندازه‌گیری زاویه تماس، طیف سنجی رامان و طیف‌سنجی فوتو الکترون پرتو ایکساستفاده شد. نتایج نشان داد که علی رغم افزایش زاویه تماس پس از احیای پوشش اکسیدگرافن با هیدرازین تا حدود ^°85، بهعلت وارد شدن نیتروژن در ساختار پوشش در طی احیا، زاویه تماس در محدوده آب‌گریزیقرار نمی‌گیرد. به علاوه، چسبندگی ضعیف اکسید گرافن به سطح مس مانع از دستیابی بهپوششی یکپارچه پس از احیا شد. بنابراین، لزوم استفاده از یک لایه میانی محرز شد.از این رو، نمکp-PBDS به

عنوان لایه میانی بین زیرلایه مس